塗裝行業（yè）中的真空鍍膜技術以及其優點介（jiè）紹

     真空鍍膜是真空（kōng）應用領域的一（yī）個（gè）重要方麵，它是（shì）以（yǐ）真空技術為基礎，利用物理或化學方法，並吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一（yī）係列（liè）新技術，為科（kē）學研（yán）究和實（shí）際生產提供薄膜製（zhì）備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬（shǔ）、合（hé）金或化合物進行蒸（zhēng）發或濺射，使其在被（bèi）塗覆的物體（稱基板、基（jī）片或基（jī）體）上凝固並沉積的方法，稱為真空鍍膜。真空鍍（dù）膜技術基本都是在處（chù）於真空的環境下進行的，因此人們（men）稱它們為真空鍍膜技術。產品鍍膜的過程是真空環境，真空度高。鍍膜機內部氣壓極低，產品中的添加劑、油脂（zhī）、水分均（jun1）會溢（yì）出（chū）。

　　真空鍍膜的方法很多，其中（zhōng）有以下三點：(1)真空蒸（zhēng）鍍（dù）：將需（xū）鍍膜的基體清洗後放到鍍膜室，抽空（kōng）後將膜料加熱到高溫，使蒸氣達到約13.3Pa而使蒸氣分子（zǐ）飛到基體表麵，凝結而成薄膜。(2)陰極濺（jiàn）射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極（jí）對麵，把惰性氣體(如氬)通入已（yǐ）抽空的室內，保持壓強約1.33～13.3Pa，然後將陰極接上2000V的直流電源，便激發輝光放電，帶正電的氬離子（zǐ）撞擊（jī）陰極，使其射出原子，濺射出的原（yuán）子通過惰性氣（qì）氛沉積到基體上形成膜。(3)化學氣相沉積：通過（guò）熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物，獲得沉（chén）積薄膜的過（guò）程。

　　在真空條件下成膜有很多優點：可減少蒸發材料的原子、分子在飛向基板過（guò）程中於（yú）分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發源材料間的化學反應（如氧化等），以及（jí）減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量，從而提供膜（mó）層的致密（mì）度、純（chún）度、沉積速率和與基（jī）板的附（fù）著力。通常真空蒸鍍要求（qiú）成膜室內壓力等於或低於10-2Pa，對於蒸（zhēng）發源與基板距離較遠和薄（báo）膜質量要求（qiú）很高的場合，則要求壓（yā）力更低。

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