磁控濺射設備（bèi）的主要用途

主要用（yòng）途有：

1、各種（zhǒng）功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏（piān）光等作用的薄膜。例（lì）如，低溫（wēn）沉積氮化矽減（jiǎn）反射膜，以提高太陽（yáng）能電池的光（guāng）電轉換效率。

2、裝飾領域的應用，如各種（zhǒng）全反射膜及半透明膜等，如手機外殼，鼠標等。

3、在微電子領域作為一（yī）種非熱式（shì）鍍膜技術，主要（yào）應用在化學氣相沉積(CVD)或金屬有（yǒu）機

4、化學氣相沉積(CVD)生長困難及不適用的材料薄（báo）膜沉積，而且可以獲得大麵積非（fēi）常均勻的薄膜。

5、在光學領域：中頻閉合場（chǎng）非平衡磁控濺射技術也已在光學薄膜(如增透膜)、低輻射玻璃和透明導電玻璃等方麵得到應用。特別是透明導電玻璃廣泛應用於平板顯示器（qì）件、太陽能電池、微波與射頻屏蔽裝置與器（qì）件、傳感器等。

6、在機械加工行業中（zhōng），表麵功能膜（mó）、超硬膜，自潤滑薄膜的表麵沉（chén）積技術自問世以來得到長足發展，能有效的（de）提高表（biǎo）麵硬度、複合韌性、耐（nài）磨損性和抗（kàng）高溫（wēn）化學（xué）穩定性能，從而大幅度地提高塗層（céng）產品的使用壽命。

磁控濺射除上述已被大量（liàng）應用（yòng）的領域，還在高溫超導薄膜、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發（fā）光材料（liào）、太陽能（néng）電池、記憶合金薄膜研究方麵發揮重要作用。