磁控濺射（shè）的工（gōng）作原理

  　磁控濺射是物理氣相沉積的一種。

磁控濺射的（de）工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛（fēi）向基片過程中與氬原子（zǐ）發（fā）生碰撞，使其電離產生出Ar正離子和新的電子;新電（diàn）子飛向基片，Ar離子在電（diàn）場作用下加速飛向陰（yīn）極靶，並以較高（gāo）能量轟擊靶表麵，使靶材發生濺射。在濺射粒子（zǐ）中，中性的（de）靶原子或分子沉積在基片上形成薄（báo）膜，而產生的（de）二次電子會受到電場和（hé）磁（cí）場作用（yòng），產生E(電場（chǎng）)×B(磁（cí）場（chǎng）)所指的方向漂移（yí），簡稱E×B漂移，其運動軌跡近似於一（yī）條擺線。若為環形磁場，則電子就以近似擺線形式在靶表麵做圓周運動，它們的運動路徑不（bú）僅很長（zhǎng），而（ér）且被束縛在靠（kào）近靶表麵的等離子體區域內，並（bìng）且在該區域中（zhōng）電離出大量的Ar 來轟擊靶材，從而實現了較高的沉積速率。隨（suí）著（zhe）碰（pèng）撞次數的增加，二次電子的能量消耗（hào）殆盡，逐漸遠離靶表麵，並在電場E的作（zuò）用下沉積在基片上。由於該電子的（de）能量很低，傳遞給基片的能量很小，致使基片溫升較（jiào）低。

磁控濺射是（shì）入射粒子和靶的碰（pèng）撞過（guò）程。入射粒子在靶（bǎ）中經曆複雜的散射過程，和靶原（yuán）子碰撞，把部分動（dòng）量（liàng）傳給靶原子，此靶原子又（yòu）和其他靶（bǎ）原子碰撞，形成級聯過程。在這種級聯（lián）過程中某些表麵附近的靶原子獲得向外運動的足夠動量，離開靶被濺射出來。