真空電鍍（dù）的工藝（yì）原理

真空電鍍（dù）法是在真空條件下加熱金屬，使其熔融、蒸發，冷卻後在塑料表麵形成金屬薄膜（mó）的方法。常用的（de）金屬是鋁（lǚ）等低熔點金（jīn）屬。

加熱金屬的方法：可以利用電阻產生的熱能，也可以（yǐ）利用電子束。

在對塑料（liào）製品實施蒸鍍時，為了確保（bǎo）金屬冷卻時所（suǒ）散（sàn）發出的熱量不（bú）使樹脂變形（xíng），必須對蒸鍍時間進行（háng）調整。此外，熔點、沸點（diǎn）太高的金屬或合金不適合於蒸鍍。置待鍍金屬和被鍍塑料（liào）製品於真空室內，采用一定方法加熱待鍍材料，使金（jīn）屬蒸發或升華，金屬蒸汽遇到冷的塑料製品表麵凝聚成金屬薄膜。

在真空條件下可減少蒸發材料（liào）的原子、分子在飛向（xiàng）塑（sù）料（liào）製品過程中和（hé）其他分（fèn）子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發源材料間的化學反應(如氧化等)，從而提供（gòng）膜層的（de）致密（mì）度、純（chún）度（dù）、沉積速率（lǜ）和與附著力。通常真（zhēn）空蒸鍍要（yào）求成膜（mó）室內壓（yā）力等於或低於10-2Pa，對（duì）於蒸發源與被鍍製品和薄膜質量要求很高的場（chǎng）合（hé），則要求壓力更（gèng）低（dī）( 10-5Pa )。鍍層厚度0.04-0.1um太薄，反射率低;太厚，附著力（lì）差，易脫落。厚度0.04時反射率為90%。