拋光是指利用機械、化學或電化學的作用，使工件（jiàn）表麵粗糙度降低，以獲得光亮、平整表麵的加工方法。是利用拋光工具和磨料顆粒（lì）或其他（tā）拋光介質（zhì）對工件表麵進行的修飾加工。拋光不能提高工件的尺寸精度或幾何形狀精度（dù），而是以得到光滑表麵（miàn）或鏡麵光澤為目的，有時也用以消除（chú）光澤（消光）。通常以拋光輪作為拋光工具。拋光輪一般用多層帆布、毛氈或皮革疊製而成，兩側用金屬圓板夾緊，其輪緣塗敷由微粉磨料和油脂等均勻混（hún）合而成的拋光劑。拋光時，高速旋轉的拋光輪（圓周速度在20米/秒以上）壓向工件，使磨料對工件表麵產生滾（gǔn）壓和微（wēi）量切削，從而獲得光亮的加工表麵，表麵粗糙度（dù）一般可（kě）達Ra0.63～0.01微米;當采用非油脂性的消光（guāng）拋光劑時，可對光亮表麵消光以改善外觀。針對不同的拋光過程:粗拋(基礎拋（pāo）光（guāng）過程)，中拋(精加工過（guò）程)和精拋(上光過程)，選用合適的拋光（guāng）輪（lún）可以達到（dào）最佳（jiā）拋光效（xiào）果，同時（shí）提（tí）高拋光效（xiào）率（lǜ）。 利用高速砂流的衝擊作用清理和粗化基體表麵的過程。采用壓縮空氣為動力，以（yǐ）形成高速噴（pēn）射（shè）束將噴料（銅礦（kuàng）砂、石英砂、金剛砂、鐵砂、海南砂）高速噴射到需要處理的工件表麵，使工件表麵的外表麵的外表或形狀發生變化，由於磨料對工件表麵的衝擊和切削作（zuò）用，使工件的表麵獲得一定的清潔度和不同的粗糙度，使工件表麵的機械性能得到改善，因此提高了工件的抗疲勞性，增加了它和塗層之間的附著力，延長了塗膜的耐（nài）久性，也（yě）有利於塗料的流平和裝飾。
是通過研磨產品在工件表麵形成線紋，起到裝飾效果的一種表麵處理手段。根據拉絲後紋路（lù）的不同可分為：直（zhí）紋拉絲、亂紋拉絲、波紋、旋紋。表麵拉絲處理是通（tōng）過研磨產品在工（gōng）件表麵（miàn）形成線紋，起到裝飾效果的（de）一（yī）種表麵處理手段。由於表麵拉絲（sī）處理能夠體現金屬材料的質感，所以得到（dào）了越來越多用戶的喜愛和越（yuè）來越廣泛的應用。一種（zhǒng）電解（jiě）氧化過程，在該過程中，鋁和鋁合金的表麵通常轉化為一層氧化（huà）膜，這層氧化膜具有保護性、裝飾性以及一些其他的功能特性。從這個定義出發（fā）的鋁（lǚ）的陽極氧化，隻包括生成陽極氧化膜這一部分工藝過程。將金屬或合金的製件作為陽極，采用電解的方法使其表麵形成氧化物薄膜。金屬氧化物薄膜改變了表麵狀（zhuàng）態和性能，如表麵（miàn）著色，提高耐腐蝕性、增強耐磨性及（jí）硬度，保護金屬表麵等。例如（rú）鋁陽（yáng）極氧化，將鋁及其合金置於相應電解液(如硫酸、鉻酸、草酸（suān）等)中作為陽（yáng）極，在特定條件（jiàn）和外加電流作用下，進行電解。陽極的鋁或（huò）其合金氧化 ，表麵上形成氧化鋁薄層 ，其厚（hòu）度（dù）為5～30微米 ，硬質陽極氧化膜可達25～150微（wēi）米 。陽極氧化（huà）後的鋁或其合金，提高了其硬度和耐磨性，可達250～500千克/平方毫米，良好的耐熱性 ，硬質陽極氧化膜熔點高（gāo）達2320K ，優良的絕緣性 ，耐擊穿電壓高（gāo）達2000V ，增強了抗腐蝕性能 ，在ω=0.03NaCl鹽霧中經幾千小時不（bú）腐蝕。氧化膜薄層中具有大量的微孔，可吸附各種潤滑劑，適合製造發動機氣（qì）缸或其他（tā）耐磨零件；膜微孔（kǒng）吸附能力（lì）強可著色成各種美觀豔麗的色彩。有色（sè）金（jīn）屬或其合金（如鋁、鎂及其合金等）都可進行陽極氧化處（chù）理，這種方（fāng）法廣泛用於機械零件，飛機汽車（chē）部件，精（jīng）密（mì）儀器及無線電器材，日用品和（hé）建築裝飾等方麵。一般來講陽極都是用鋁或（huò）者鋁合金當作陽極（jí），陰極則選取鉛板，把鋁和鉛板一起放在水溶液，這裏（lǐ）麵有硫（liú）酸、草酸（suān）、鉻（gè）酸等，進行電解，讓鋁和鉛板（bǎn）的表麵形成一（yī）種氧化膜。在這些酸（suān）中，最為廣泛的是用硫酸（suān）進行的陽極氧化。
單色（sè）、漸變色：拋光/噴（pēn）砂/拉絲→除油→陽極氧化→中和→染色→封孔→烘幹雙色：①拋光/噴砂/拉絲→除油→遮蔽→陽極氧化1→陽極氧化2 →封孔→烘幹②拋光/噴砂/拉絲→除油→陽極（jí）氧化1 →鐳雕→陽極氧化2 →封孔→烘幹
3、實（shí）現無鎳封孔，滿足歐（ōu）、美等國家對無（wú）鎳的要求。
工藝分為陽極電泳和陰極電泳。若塗（tú）料粒子（zǐ）帶負電，工件為陽（yáng）極，塗料粒子在電場力作用下在工件沉積成膜稱為陽極（jí）電泳；反之，若塗料粒子（zǐ）帶正電，工件為陰極，塗料粒子在工件上沉積成膜（mó）稱為陰極電泳。
陽極電泳一般工藝流程為：工件前（qián）處理（除油→熱水洗→除鏽（xiù）→冷水洗（xǐ）→磷化→熱（rè）水洗→鈍（dùn）化）→陽極電泳→工件後處理（lǐ）（清水洗→烘幹）。1、除油。溶液一般為熱堿性化學除油液，溫度為60℃（蒸汽（qì）加熱），時間為20min左（zuǒ）右。2、熱水洗。溫度60℃（蒸（zhēng）汽加熱（rè）），時（shí）間2min。3、除鏽。用H2SO4或HCl ，例如用鹽酸除（chú）鏽液，HCl總（zǒng）酸度≥43點；遊離酸度（dù）>41點；加（jiā）清洗（xǐ）劑1.5%；室溫下洗10～20min。4、冷水洗（xǐ）。流（liú）動中冷水（shuǐ）洗1min。5、磷化（huà）。用中溫（wēn）磷化（60℃時磷化10min），磷化液可用市售成品。上（shàng）述工序亦可用噴砂→水洗（xǐ）代替。6、鈍化。用與磷化液配（pèi）套的藥品（由出售磷化（huà）液廠家提供），室溫下1～2min即可。7、陽極電泳。電解液成分：H08-1黑（hēi）色（sè）電泳（yǒng）漆，固體分（fèn）質量分數9%～12%，蒸餾水（shuǐ）質量（liàng）分數88%～91%。電壓：（70±10）V；時間：2～2.5min；漆液溫度：15～35℃；漆液PH 值：8～8.5。注意工件出入槽要斷電。電（diàn）泳過程中（zhōng）電流隨漆膜增厚（hòu）會逐步下降。9、烘幹。在烘箱中於（165±5）℃溫度下烘40～60min即可（kě）。
PVD是英文Physical Vapor Deposition（物理氣（qì）相沉積）的縮寫，是指在真空（kōng）條件下（xià），采用低（dī）電壓、大電流的電弧放（fàng）電技術，利用氣體放電使靶材蒸發並使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被（bèi）蒸發物質及其（qí）反應產物（wù）沉積在（zài）工件上。物（wù）理氣相（xiàng）沉積技術工藝過程簡單，對環境改善，無汙染，耗材少，成膜（mó）均勻致密，與基體（tǐ）的結合力強。該技術廣（guǎng）泛應用於（yú）航空航天、電子、光學、機械、建（jiàn）築（zhù）、輕工（gōng）、冶金（jīn）、材料等領域，可（kě）製備具有耐磨、耐腐飾、裝飾、導電、絕緣、光導、壓電、磁性、潤滑、超導等特性的膜層。
(Electroplating)就是利用電解原理在某些金屬表麵上鍍（dù）上一薄層其它金屬或合金的過程，是利用電解作（zuò）用使金屬（shǔ）或其它材料製（zhì）件的表麵附著一層金屬膜的工藝從而起到防止金屬氧化（如鏽蝕（shí）），提高耐磨性、導電性、反光性、抗腐蝕性(硫酸銅等）及增進美（měi）觀等（děng）作用（yòng）。不少硬幣的外層亦為電鍍。
通常所指蝕刻（kè）也稱光化學（xué）蝕刻，指通過（guò）曝光製版、顯影後，將要蝕刻區域的保護膜（mó）去除，在蝕（shí）刻時接（jiē）觸化學溶液（yè），達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果（guǒ）。
曝光法：工程根據圖形開出備料尺寸-材料準（zhǔn）備-材料清洗-烘幹→貼膜或塗布→烘幹→曝光（guāng）→顯影→烘幹-蝕（shí）刻→脫（tuō）膜→OK網印法：開料→清洗板材(不鏽鋼其它金屬材料)→絲網印→蝕刻→脫膜→OK
噴塗通過噴槍或碟式霧化（huà）器，借（jiè）助於壓力或離心力，分散（sàn）成均勻而微細的霧滴，施塗於（yú）被塗物表麵的塗裝方法。可（kě）分（fèn）為空氣噴塗、無空氣噴塗、靜電噴塗以及上述基本噴塗形（xíng）式的各種派生的方式，如大流量低壓力霧化噴塗、熱（rè）噴塗、自動噴塗、多組噴塗等。噴塗作業生產效率高，適用於手工作業及（jí）工業自動化生產（chǎn），應用範圍廣主（zhǔ）要有五金、塑膠、家私、軍工、船舶等領（lǐng）域，是現今應用最普遍的一種塗裝方式；噴塗作（zuò）業需要環境要求有百萬級到百級的無（wú）塵車間，噴塗設備（bèi）有噴槍，噴漆室，供漆室，固化爐/烘幹爐，噴塗工件輸（shū）送作業設備，消霧及廢水，廢氣處（chù）理設備等（děng）。大流量低壓力（lì）霧化噴塗是低的（de）霧化氣壓和低空氣射流速度，低的（de）霧化塗料運行速度改善了塗料從被塗物表麵反彈出來的情況。使上漆率從普通空氣噴塗的30%～40%，提高到（dào）了（le）65%～85%。在輕（qīng）革塗飾中用噴槍或噴漿（jiāng）機將塗飾（shì）噴於（yú）革麵上。也叫激光（guāng）雕刻或者激光打標，是一種（zhǒng）用光學原理進行表麵處理的工（gōng）藝（yì）。利用激（jī）光器發射的高強度聚焦激光束在焦點處 . 使材料氧（yǎng）化因而對其進行加工.打標的效應是通過表層物（wù）質的（de）蒸發露出深層物質,或者是通（tōng）過光能導致（zhì）表層物質的（de）化（huà）學物理變化出痕跡,或者是通過光能（néng）燒掉（diào）部分物質,而“刻”出痕跡,或者是通過光能燒掉部分物（wù）質, 顯出所（suǒ）需刻蝕的圖形,文字。
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