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就是利用電解原理在某些金屬表麵上鍍上一(yī)薄層其它金屬或合(hé)金的過程(chéng)。電鍍時,鍍層金屬做陽極,被氧化成陽離子進入電鍍(dù)液(yè);待鍍的金屬製(zhì)品做陰極,鍍層金屬(shǔ)的陽離子在金屬表麵被還原形成鍍層。為排除其它陽離子的幹擾,且使鍍層均勻、牢固,需用含鍍層金屬陽離子的溶(róng)液做電鍍(dù)液,以保(bǎo)持鍍層金(jīn)屬陽離子的濃度不變。電鍍的目的是在基材上鍍上金屬鍍層(céng)(deposit),改變基材表麵性質或尺寸.電鍍能增強金屬的抗腐蝕性(鍍層金屬多采用耐腐蝕的金(jīn)屬)、增加硬(yìng)度、防止磨耗(hào)、提高導電性、潤滑性、耐熱性、和表(biǎo)麵美觀。
電鍍需(xū)要一個向電鍍槽供電的低壓大電(diàn)流電源以及(jí)由電鍍液、待鍍零件(陰極)和陽極構成的電解(jiě)裝(zhuāng)置。其中(zhōng)電(diàn)鍍液成分視鍍層不同而不同(tóng),但均含(hán)有提供(gòng)金屬離子的主鹽,能絡合(hé)主鹽中金屬離子形成絡合物的絡合劑,用(yòng)於穩定溶液酸堿度的緩衝劑,陽極活化劑和特殊(shū)添加(jiā)物(如光亮劑、晶粒細化劑、整平劑、潤濕劑、應力消除劑和(hé)抑霧劑等)。電(diàn)鍍過程是鍍液中的金屬離子在外電(diàn)場的作用下,經電極反應還原成金屬原(yuán)子,並在(zài)陰極上進行金屬沉積的過程。因此,這是一個包括液相傳質、電化學(xué)反應和(hé)電結(jié)晶等步(bù)驟的金屬電沉積(jī)過程。
在盛有電鍍液(yè)的鍍槽中,經過清(qīng)理和特殊預處理的待鍍件作為陰極,用鍍覆金屬製成陽極(jí),兩極分別與直流電源(yuán)的正極和負極聯(lián)接。電鍍液由含有鍍覆金屬的化合物(wù)、導電的鹽類、緩衝(chōng)劑、pH調節劑和添(tiān)加劑等的水溶液組成。通電後(hòu),電鍍液中的(de)金屬離子,在電位差的作(zuò)用下移動到陰極上形成鍍層。陽極的金屬形成金屬離子進入電(diàn)鍍液,以保持被鍍覆的金屬離子的濃度。在有些情況(kuàng)下,如鍍鉻(gè),是采用鉛、鉛銻合金製成的不(bú)溶性陽極,它(tā)隻起傳遞電子、導通電流的作(zuò)用。電解液(yè)中的鉻(gè)離子濃度,需依靠(kào)定期地(dì)向鍍液中加入鉻化合物來維持。電鍍時,陽極材料的質量、電鍍液的成分、溫度、電(diàn)流密度、通電時間、攪拌強度、析出的雜質、電源波形等都會影響鍍層的質量,需要適時進行控製。
首先電鍍液有六個要素:主鹽、附加鹽、絡合劑、緩衝劑、陽極活化劑和添加劑。
電鍍原(yuán)理包含(hán)四個方麵:電鍍(dù)液、電鍍反應、電極與反應(yīng)原理、金屬的電沉積過程。